模板图案_模板图案大全
合肥晶合申请掩模板的图案修正方法及其系统专利,保证光刻准确性...金融界2024年11月11日消息,国家知识产权局信息显示,合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“掩模板的图案修正方法及其系统”的专利,公开号CN 118915376 A,申请日期为2024年10月。专利摘要显示,本公开提供了一种掩模板的图案修正方法及其系统,该图案修正方法包括:获等会说。
金埔园林取得一种花街铺地模板专利,能快速形成不同的规则式图案并...金融界2024年6月7日消息,天眼查知识产权信息显示,金埔园林股份有限公司及金埔园林湖北有限公司取得一项名为“一种花街铺地模板“授权小发猫。 采用拼装的方式形成不同的规则式图案,卵石铺贴牢固,上面层高度统一,较传统花街铺地施工速度快,节省大量人工和时间,同时在大面积、具有相小发猫。
江苏第三代半导体研究院申请掩模板的设计和微型发光二极管的制备...光刻胶层和掩模板;所述掩模板包括基体层和位于所述基体层上的遮光层;设定仿真条件,包括用于曝光光源的波长、仿真模型中各结构层的厚度和遮光层的图案结构;基于仿真模型和仿真条件进行仿真模拟,得到曝光时经过掩膜板后光刻胶层接收到的光场分布;改变遮光层的图案结构,重复仿小发猫。
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胡一天日常穿搭模板,让你瞬间成为回头率+20%的焦点!比如带有独特图案设计的一款就能轻松吸引目光,即便是与简单的下装组合也能展现出非凡的魅力。如果你想要让你的基础款衬衫看起来更加与众不同,不妨尝试一下叠穿两件风格相似但颜色略有差异的衬衫。这样做不仅能增加层次感,还能避免因色彩对比强烈而导致的整体不协调问题说完了。
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森扬电子申请通过局部特征匹配羽化模板的打印专利,提升打印质量和...广州市森扬电子科技有限公司申请一项名为“通过局部特征匹配羽化模板的打印方法、设备及存储介质”的专利,公开号CN 118915980 A,申请日期为2024 年7 月。专利摘要显示,本发明公开了通过局部特征匹配羽化模板的打印方法、设备及存储介质,包括对图案特征类型进行分类并为等我继续说。
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苏大维格申请一种微纳结构的制备方法、压印模板和防伪制品专利,...压印模板和防伪制品“公开号CN202410779688.1,申请日期为2024 年6 月。专利摘要显示,本发明涉及光刻印刷领域,特别涉及一种微纳结构的制备方法,以及制备得到的压印模板和压印得到的防伪制品。通过待制备的微纳结构的前景图案和背景图案获得直写图文和光栅图文,直写图文说完了。
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日本 DNP 实现 2nm 工艺光掩模图案化,出样 High NA 兼容光掩模成功在其光掩模制品上绘制了支持2nm 及以下EUV 工艺的精细光掩模图案;同时该企业还完成了支持High NA EUV 光刻的光掩模的初步评估并已向生态合作伙伴出样。IT之家注:在现代光刻系统中,光掩模上的“大图案”是在晶圆上的芯片电路“小图案”的模板。DNP 在2023 年完成后面会介绍。
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华为公司申请掩模板组件、光刻装置和光刻方法专利,提高工艺窗口本申请提供一种掩模板组件、光刻装置和光刻方法,通过两次曝光工艺,提高工艺窗口。掩模板组件包括第一掩模板和第二掩模板。第一掩模板用于对待刻蚀层上的正性光刻胶中位于禁止周期的部分进行第一次曝光,得到第一光刻胶图案。第一掩模板包括交替的第一透光图形和第一散射图是什么。
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胡一天日常穿搭模板,路人请完全照着穿,回头率+20%!最近好多人来后台问,有没有比较接地气的男明星穿搭。当然有啊,胡一天的穿搭就非常日常,单品也都是大家平时会穿的,今天我们就一起来看看。这个季节,衬衫既可以做内搭也可以单穿。他的衬衫穿搭都走的不是基础路线,比如一件有点图案的衬衫就很吸睛,搭配上简简单单的就很好看等会说。
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秋季搭配难题?这些时髦独特的穿搭模板让你轻松成为焦点!一个时髦且独特的穿搭模板变得格外实用。只需跟随这样的模板,便能轻松提升你的魅力指数,让我们一起探索吧。针织衫以其柔和的特性,能够轻易营造出一种温婉的美态。秋日里,针织衫几乎成了每个人的衣橱必备。无论是修身还是宽松款式,纯色或是条纹图案,各式各样的针织衫应有后面会介绍。
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